等离子体增强化学气相沉积系统PECVD

型号:KJ-T1200-S60-PE

简要描述: 此款等离子体增强化学气相沉积系统由外径60mm的滑道式管式炉，3路质量流量计系统，300W射频电源系统和真空系统组成。……

详细介绍:

产品简介：
KJ-T1200-S60-PE（等离子体增强化学气相沉积系统）由外径60mm的滑道式管式炉，3路质量流量计系统，300W射频电源系统和真空系统组成。
此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。

主要用途：
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯、金属薄膜、陶瓷薄膜、符合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

可选配置：该炉可配通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。

注意事项：
1、设备炉膛温度≥200℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害；
2、设备使用时，炉管内压力不得超过0.02MPa（绝对压力），以防止压力过大造成设备损坏；
3、当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态；
4、在对样品加热时，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，绝对压力表读数不要大于0.02MPa，必须立刻打开排气端阀门，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）。

公司对所供设备提供质保一年保修服务（易损件除外），保修期满后，仍提供终身的、优质的咨询、维修服务
公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训，可提供技术人员上门服务
每台炉子出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试，为客户提供放心可靠的产品
公司产品获有欧盟CE质量认证

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