可旋转化学气相沉积-旋转镀膜-磁流体密封-可抽真空可通气体-郑州科佳电炉

详细介绍:

产品介绍：

PECVD旋转管式炉系统适用于粉体材料的表面薄膜沉积。系统由高功率射频电源（500W，13.56MHz）、真空系统、旋转管式炉组成。利用等离子体特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程，并在适当的温度下沉积薄膜。PECVD淀积的薄膜具有良好的电学性能、良好的衬底附着性以及不错的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。属于PECVD设备的一种。

PECVD旋转管式炉实拍图

产品优势：

1、PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等；
2、PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；
3、借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；
4、真空系统由旋片真空和数显真空计组成，冷态极限真空度可达10Pa；
5、采用快接法兰密封，装卸方便快捷；
6、加热区域采用单温区，加热区200mm，操作简便，密封可靠，综合性能指标较高。
7、炉管采用定制变径炉管，管壁内带有石英拨料台，让物料受热更充分。炉管360℃旋转，旋转速度可调。
8、温控系统采用PID智能化程序控温，可以设置多段升降温程序。
9、法兰上带有进出气旋转接头，可以通入氮气、氩气等惰性保护气体，可在气氛环境下使用。
10、安全防护，具有超温保护功能，当温度超过允许设定值后，自动报警保护功能，操作安全可靠。
13、我司具有自行研发设计生产加工的能力，我们的机器提供终身配件更换和升级服务。

PECVD旋转管式炉实拍图

PECVD等离子射频

可选配置：该炉可配通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。

注意事项：
1、设备炉膛温度≥200℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害；
2、设备使用时，炉管内压力不得超过0.02MPa（绝对压力），以防止压力过大造成设备损坏；
3、当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态；
4、在对样品加热时，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，绝对压力表读数不要大于0.02MPa，必须立刻打开排气端阀门，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）。

公司对所供设备提供质保一年保修服务（易损件除外），保修期满后，仍提供终身的、优质的咨询、维修服务
公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训，可提供技术人员上门服务
每台炉子出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试，为客户提供放心可靠的产品
公司产品获有欧盟CE质量认证

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